Silquest A-1120, N(bêta-aminoéthyl) gamma-aminopropyltriméthoxy-silane, et Silquest A-2120, N(bêta-aminoéthyl) gamma-aminopropylméthyldiméthoxy-silane, sont des sianes diamino fonctionnels qui peuvent être utilisés dans une large gamme d’applications. Ils sont utilisés pour favoriser l’adhérence des résines amino-réactives telles que le silicone, le polyuréthane silylé, les uréthanes à deux composants et les époxydes à deux composants sur les surfaces inorganiques, les surfaces en plastique et les charges ou renforts inorganiques.

La résine de silicone à base d’eau CoatOSil DRI peut aider à réduire l’absorption d’eau et à améliorer la résistance aux UV dans les compositions de revêtement organique à base d’eau. Sa structure chimique permet à la résine de silicone à base d’eau CoatOSil DRI de surmonter les difficultés liées à la combinaison de matériaux en silicone avec des résines organiques à base d’eau.

Le silane Silquest Y-9669 combine les fonctionnalités phényle et aminé dans la même molécule. C’est un promoteur d’adhérence extrêmement efficace pour de nombreux systèmes de résine chargée et renforcée. Le silane Silquest Y-9669 est un promoteur d’adhérence polyvalent, en particulier pour les systèmes de résine qui réagiront avec un groupe amino secondaire, tel que les isocyanates, les acrylates, les époxydes, les phénoliques et les silicones RTV. Ce silane est particulièrement utile lorsque le matériau résultant doit résister à des températures plus élevées, par exemple dans les composites résine phénolique/fibre de verre.

TSR1452 s’agit d’une résine de silicone phényl-méthyle qui peut être utilisée comme semelle ou co-liant pour formuler des revêtements résistants aux hautes températures. Les revêtements peuvent être séchés à température ambiante mais nécessitent un durcissement thermique pour obtenir des performances maximales. Formulations l’utilisation de TSR1452 avec des pigments et des charges appropriés, tels que la poudre/les flocons métalliques, peut atteindre une résistance thermique jusqu’à 600 °C.