LUNA-VIN HMVA-W è un terpolimero idrossil-funzionale composto da cloruro di vinile, acetato di vinile e acrilato idrossialchilico. Può essere utilizzato per formulare rivestimenti sia trasparenti che pigmentati, per l'uso su una varietà di substrati tra cui metallo, legno, carta, plastica e tessuto. LUNA-VIN HMVA-W può essere utilizzato anche negli adesivi e negli inchiostri da stampa rotocalco.

LUNA EEP è un liquido bianco trasparente. LUNA EEP è un solvente di grado etere-estere uretanico a lenta evaporazione con un'eccellente attività per un'ampia gamma di formulazioni di rivestimento. La sua struttura lineare e il gruppo propionilico al centro della molecola conferiscono a questo materiale un'eccezionale prestazione solvente come elevata attività del solvente, bassa velocità di evaporazione, flusso e livellamento eccezionali, nonché un'elevata resistenza elettrica.

LUNA-VIN VMCC/A-W è un terpolimero funzionale carbossilico a medio peso molecolare composto da cloruro di vinile, acetato di vinile e acido maleico. LUNA-VIN VMCC/A-W mostra un'eccellente adesione a vinili, metalli, calcestruzzo e substrati cellulosici. Grazie al suo basso peso molecolare, LUNA-VIN VMCC/A-W fornisce formulazioni a bassa viscosità e ad alto contenuto di solidi.

LUNA-VIN VAGH-W è ampiamente utilizzato per rivestimenti, rivestimenti per la manutenzione, vernici marine, vernici per superfici in legno, rivestimenti in carta, vernici decorative per metalli, vernici per contenitori, vernici per film placcati in alluminio, adesivo in PVC/acciaio e adesivo per nastro. LUNA-VIN VAGH-W è un copolimero di cloruro di vinile modificato con ossidrile e acetato di vinile. Ha una buona compatibilità con resina alchidica, elastomero PU, polimero epossidico, resina melamminica e urea. Può migliorare le proprietà del rivestimento, rafforzare l'adesione del rivestimento, la durezza, la flessibilità e la resistenza chimica. Può anche fornire una reazione di reticolazione per sistemi di rivestimento termoindurenti, per migliorare la resistenza all'acqua e la resistenza chimica.