All

text.skipToContent text.skipToNavigation

✓ 产品已添加到报价

食品與飲料原料

個人護理原料

醫藥原料

特用化學品

All

我們找到了20物品。

Filter

永續

樣品需求

樣本數:

申請 / 專案說明

申請者的聯繫方式
全名
公司
職位
電話號碼
工作電子郵件地址
運送地址

提交

Thank you. Your request has been sent.

SURFADONE LP 100

Caprylyl Pyrrolidone

SURFADONE LP 100 è un tensioattivo biodegradabile che migliora le prestazioni di bagnatura e pulizia.

個人護理成分

報價需求

提供對環境、社會或經濟有效益的原料，同時致力於在原料的整個生命週期內保護公眾健康和環境。

BLANOSE CMC 7H3SF

SODIUM CARBOXYMETHYLCELLULOSE

BLANOSE CMC 7H3SF è una carbossimetilcellulosa sodica di elevata purezza, CMC sodico, 99,5%. Viene utilizzato per il legame con l'acqua e il controllo della sineresi. Ha la capacità di sospendere pigmenti e principi attivi in soluzione.

個人護理成分

報價需求

EFFISIN CPN

CHLORPHENESIN

Effisin™ CPN è un conservante versatile progettato per i prodotti per la cura della persona, che offre una protezione ad ampio spettro contro batteri, lieviti e muffe. È ideale per l'uso in varie formulazioni tra cui creme, lozioni e shampoo, garantendo stabilità e longevità del prodotto. Questo conservante è facile da incorporare e fornisce un efficace controllo microbico, rendendolo una scelta affidabile per i produttori che cercano di migliorare la sicurezza e la durata di conservazione dei loro prodotti.

個人護理成分

報價需求

S&M PROPYLPARABEN

Propylparaben

S&M PROPYLPARABEN comprende un unico principio attivo e ha un'efficacia ad ampio spettro. Questa polvere cristallina è un potente conservante anche a basse concentrazioni d'uso ed è stabile in un ampio intervallo di pH e temperatura. S&M PROPYLPARABEN è pienamente efficace sia nei sistemi anionici che cationici. pH acido pH efficace < 8

個人護理成分

報價需求

登入即可完整查詢數千種產品。

已加入您的購物車

按商店位置劃分的產品可用性

小時

名字*

很抱歉！此欄位不可空白。

姓氏*

很抱歉！此欄位不可空白。

工作電子郵件*

很抱歉！此欄位不可空白。

公司名稱*

很抱歉！此欄位不可空白。

產品類型*

產品名稱*

很抱歉！此欄位不可空白。

市場/地點*

很抱歉！此欄位不可空白。

CAS 編號/INCI 名稱

很抱歉！此欄位不可空白。

工業*

很抱歉！此欄位不可空白。

應用*

很抱歉！此欄位不可空白。

每年數量*

很抱歉！此欄位不可空白。

申請詳情*

很抱歉！此欄位不可空白。

*必修

All

很抱歉，系統出現問題！請重試。

目前沒有可用的配方

感謝您的詢問。

確認您的位置

All

很抱歉，系統出現問題！請重試。

目前沒有可用的配方

感謝您的詢問。