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Ingredienti per la cura personale

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Esplora gli ingredienti per la cura della persona di alta qualità di DKSH, provenienti dai migliori fornitori globali. Il nostro portafoglio include emollienti, emulsionanti, ingredienti attivi e materie prime sostenibili per skincare, haircare e cosmetici, supportati da competenze globali.

Ingredienti per la cura personale

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E-POLYLYSINE 25% SOLUTION

Polyepsilon-Lysine,Maltodextrin

E-POLYLYSINE 25% SOLUTION è un conservante strutturato con amminoacidi. Come ingrediente prodotto con sostanze naturali utilizzando la nostra biotecnologia. La POLILISINA è un poliamminoacido a catena lineare che collega da 25 a 35 residui di L-lisina, caratterizzato da un legame peptidico tra il gruppo amminico epsilon e il gruppo carbossilico in L-lisina, una sorta di amminoacido essenziale.

POLYLYSINE 25 % SOLUTION

Polyepsilon-Lysine

La soluzione di polilisina al 25% è un polimero naturale di L-lisina, un amminoacido essenziale prodotto dalla fermentazione dei batteri. Può essere utilizzato da solo o in combinazione con altri conservanti. Non è compatibile con i tensioattivi anionici. pH efficace 5-8.
COSPHADERM SODIUM LAAS

Sodium Levulinate, Sodium Anisate

Cosphaderm® Sodium LAAS è una polvere bianca che comprende la miscela solida di levulinato di sodio e anisato di sodio. Questa miscela mostra proprietà condizionanti e mascheranti per la pelle, oltre a un'ampia efficacia antimicrobica. In questo modo, Cosphaderm® Sodium LAAS può aiutare a garantire la stabilità microbiologica di una formulazione senza l'uso di conservanti tradizionali.

Cosphaderm® pAS natural

p-Anisic Acid

Cosphaderm® pAS natural è un acido anisico di origine vegetale con proprietà multifunzionali. Grazie al suo profumo molto delicato e piacevole, il pAS naturale di Cosphaderm può essere usato come agente mascherante per coprire odori indesiderati provenienti da altri ingredienti. Un'altra funzione dell'acido anisico è la forte efficacia antimicrobica a valori di pH inferiori a 6,0, specialmente contro lieviti e muffe.
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